膜厚儀又名膜厚測(cè)試儀，分為手持式和臺(tái)式二種，手持式又有磁感應(yīng)鍍層測(cè)厚儀，電渦流鍍層測(cè)厚儀，熒光X射線儀鍍層測(cè)厚儀。手持式的磁感應(yīng)原理時(shí)，利用從測(cè)頭經(jīng)過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來測(cè)定覆層厚度。也可以測(cè)定與之對(duì)應(yīng)的磁阻的大小，來表示其覆層厚度。膜厚儀也叫X射線測(cè)厚儀，它的原理是物質(zhì)經(jīng)X射線或粒子射線照射后，由于吸收多余的能量而變成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài)，此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來，而此時(shí)是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來。熒光X射線鍍層厚度測(cè)量?jī)x或成分分析儀的原理就是測(cè)量這被釋放出來的熒光的能量及強(qiáng)度，來進(jìn)行定性和定量分析。

膜厚儀與涂層測(cè)厚儀的差別

膜厚儀一般來說和涂層測(cè)厚儀是一類產(chǎn)品。

膜厚儀一般是測(cè)氧化膜層厚度，常見的鋁基，銅基氧化，測(cè)量時(shí)候用涂層測(cè)厚儀選擇N（非磁性）探頭，這樣測(cè)鋁基等氧化層也稱為膜厚儀。

涂層測(cè)厚儀正常情況下有兩種測(cè)量原理，配F合N探頭，或者FN一體探頭。氧化層一般是幾微米到十幾微米，但是普通的涂層測(cè)厚儀誤差比較大，需要用高精度的涂層測(cè)厚儀測(cè)量氧化層.

兩者是只是根據(jù)材料有細(xì)微區(qū)別，不過現(xiàn)在使用者很多不了解，也相互稱呼。